PlasmaX-Lab全能型實(shí)驗(yàn)等離子表面處理設(shè)備

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CD-1000-PLC等離子清洗機(jī)技術(shù)資料

PlasmaX-Lab全能型實(shí)驗(yàn)等離子表面處理設(shè)備

PlasmaX-Lab全能型實(shí)驗(yàn)等離子表面處理設(shè)備,是一款專為精密表面工程設(shè)計(jì)的高端工具。其鋁質(zhì)構(gòu)造的450 x 300 x 300mm反應(yīng)艙配備可視窗口,提供40.5升的寬敞處理空間,支持大范圍的實(shí)驗(yàn)需求。采用獨(dú)特的二級(jí)等離子設(shè)計(jì)和水冷電極,PlasmaX-Lab保證了處理過程中的極致均勻性和效率,滿足了高精度表面處理的嚴(yán)格要求。

該設(shè)備搭載高效的螺桿真空泵和精確的薄膜規(guī)真空計(jì),能快速達(dá)到所需的處理環(huán)境,同時(shí)保證過程中的穩(wěn)定性。其PLC控制系統(tǒng)通過觸摸屏操作,提供自動(dòng)化處理流程、精確監(jiān)控和參數(shù)調(diào)整能力,大大提高了操作便利性和處理的可重復(fù)性。PlasmaX-Lab還支持雙氣體輸入,配有先進(jìn)的氣體流量控制器和液體輸入系統(tǒng),確保了處理過程的靈活性和多樣性。

此外,PlasmaX-Lab強(qiáng)調(diào)安全性能,配備急停開關(guān)以應(yīng)對(duì)緊急情況,確保使用過程中的安全。其380V AC, 50HZ, 40A的電源需求,配合0~300W可調(diào)的頻射發(fā)生器,使得該設(shè)備不僅適用于多種材料處理,同時(shí)也兼顧環(huán)保和能效。


設(shè)備參數(shù)

反應(yīng)艙

材料:鋁

有效尺寸:450 x 300 x 300mm

容積:40.5升

艙門:裝有可視窗口

電極:二級(jí)等離子設(shè)計(jì),保證單層均勻性和層間均勻性。同時(shí)包含水冷電極。

樣品盤:1套,尺寸:350 x 250mm

真空度測(cè)量

薄膜規(guī)真空計(jì),保證真空度測(cè)量精度

真空泵

螺桿真空泵;24m3 /h

頻射發(fā)生器

0~300W可調(diào),MHz發(fā)生器

控制系統(tǒng)

觸摸屏操作,PLC控制系統(tǒng)

PLC可實(shí)現(xiàn)下列功能:

自動(dòng)控制反應(yīng)過程;

根據(jù)處理材料設(shè)定不同的處理工藝流程;

測(cè)定真空度、抽真空時(shí)間、充氣流速、處理時(shí)間、溫度、頻射發(fā)生器輸入功率等指標(biāo);

監(jiān)測(cè)所有的運(yùn)行指標(biāo),保證在設(shè)定范圍之內(nèi);

設(shè)定操作、維護(hù)密碼。

電源

380V AC, 50HZ, 40A

反應(yīng)氣體

2個(gè)氣體輸入端口,含氣體流量控制器(MFC)。

氣體輸入

直徑1/4’’ 管道;輸入壓力:1Bar.

液體輸入

包含液態(tài)單體氣化裝置,可以設(shè)定液態(tài)單體流量,氣化溫度

尾氣排放

包含尾氣輸出端口

安全性能

急停開關(guān)

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